专注气体领域20年 · 定制化气体解决方案服务商

产品包括：5N氖气、6N氦气、5N氪气、5N氙气、航天级6N 氙气、6N氢气、6N二氧化碳、5N一氧化碳、6N氮气、6N氩气、氯化氢基激光混配气、氟基准分子激光混配气和其他动态激光混配气等一系列电子特种气体

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专注电子特种气体和混配气体

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光刻类

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光刻类

KrF和ArF气体，在行业内的标准统称是 “（准分子）激光气体”，它属于半导体应用电子特种气体板块中的光刻工艺用气”此类气体需要顶尖的纯化技术，精确的配比以及严格的质量管理体系保证产品批次的稳定性。

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> 具备电子气级钢瓶处理和高纯气体分析能力 > 采用深冷精馏、物理化学吸附等先进技术 > 专业电子特种气体和混配气体研发及生产基地 > 25套电子特种气体和混配气体生产加工装置 > 共享股东方的各类研发平台和人力资源 > 新工艺和产品，采用专业化、产业化的运作模式

医学类

XeCl激光通过两种逻辑服务于不同系统：在心血管领域，它以“冷消融”方式直接气化钙化斑块，是介入治疗严重钙化的关键工具；在皮肤科，其同波长光则被病变免疫细胞特异性吸收，以精准的免疫调节方式治疗白癜风与银屑病。眼科采用ArF准分子激光（193nm），其“消融效应”极为精细，可通过打断角膜分子键实现组织重塑，是近视矫正（LASIK）等手术的基石。这三者共同展示了激光医学“精准、靶向、高效”的治疗价值。

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科研类

科研及工业用准分子激光是一类用于产生特定波长、高功率脉冲激光的气体工作介质。其主要作用是，在相应设备中通过气体放电，产生具有工业或科研用途的激光束。此类激光束的应用领域包括芯片制造中的深紫外光刻光源、用于材料切割与表面处理的工业加工光束、以及作为科学研究中的激发光源等。其气体配比、纯度和相关技术规格，取决于具体的波长、输出功率、重复频率等激光性能指标，均需符合特定的工业与科研应用标准。

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显示面板类

显示面板制造中，高纯气体是关键工艺材料：氩气（Ar）、氮气（N₂）、氦气（He）用于薄膜沉积和蚀刻的环境与保护；氟基（CF₄）和氯基（Cl₂）气体用于干法蚀刻；光刻机光源需氪/氟/氖（Kr/F₂/Ne）混合气；高温及封装环节依赖高纯氮气提供惰性环境。这些气体的超高纯度和稳定供应，直接影响面板的精度、良率与成本。

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ABOUT US

中国制造全球信赖

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司作为湖南凯美特气体股份有限公司（证券代码：002549.sz）其控股子公司，坐落于湖南省岳阳市岳阳楼区，成立于2018年1月2日。公司建有12套电子特种气体纯化和混配的生产加工装置，致力于在电子特种气体领域进行全方位拓展。公司还配备了专业的高纯气体及混配气体分析实验室，其中包括8套分析预处理系统、40余台色谱仪、傅里叶变换红外光谱仪、紫外光谱仪、微量水分析仪、ICP-MS、GC-MS、HPIC等先进的进口分析设备。公司的旗舰产品F2/Kr/Ne、F2/Ar/Ne、Kr/Ne、Ar/Xe/Ne混配气通过了国际相关设备原厂认证，产品远销至全球多家知名半导体企业。

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新闻资讯

2025-10-21

2025

10-21

准分子激光与极紫外光刻气体：先进半导体制造的核心要素

在半导体制造领域，器件的持续微缩化直接驱动了对先进光刻技术的依赖。随着制程节点向更小尺度演进，所需的图案化步骤显著增加，从而导致准分子激光气体的消耗量同步上升。极紫外光刻作为下一代光刻技术，其发展旨在进一步突破物理限制，该技术间接涉及二氧化碳与氢气的应用，并与现有的深紫外光刻技术形成互补关系，而非在可预见的未来内将其取代。

2025-10-21

2025

10-21

揭秘308nm准分子激光器的核心耗材——混合气体

当谈到308nm准分子激光器在皮肤科治疗（如白癜风、银屑病）或工业精密加工中的卓越表现时，我们常常专注于其精准的能量和显著的效果。然而，驱动这台精密设备发出特定紫外光的“心脏”是什么？

2025-10-21

2025

10-21

什么是准分子激光

准分子激光（Excimer laser）是指通过电子束激发惰性气体与卤素气体混合后，在分子由激发态向基态跃迁过程中释放出的激光。该激光属于冷激光类型，具有方向性强、单色性好、输出功率高的脉冲特性，波长范围在157–353纳米之间，光子能量较高，寿命约为数十纳秒，处于紫外波段。常用波长包括193 nm（ArF）、248 nm（KrF）和308 nm（XeCl）。

2025-10-21

2025

10-21

什么是准分子激光器

准分子激光器是一类基于受激复合分子（excimer）能级跃迁机制的气体激光源，其工作物质通常为惰性气体与卤素气体在激发态下形成的瞬态化合物（如ArF、KrF、XeCl等）。该类激光器输出波长位于紫外波段（157–353 nm），具有光子能量高、峰值功率大、脉冲宽度窄（典型值为数十纳秒）等特点，是目前深紫外区域重要的高功率相干光源。