专注气体领域35年 · 定制化气体解决方案服务商

产品包括：5N氖气、6N氦气、5N氪气、5N氙气、航天级6N 氙气、6N氢气、6N二氧化碳、5N一氧化碳、6N氮气、6N氩气、氯化氢基激光混配气、氟基准分子激光混配气和其他动态激光混配气等一系列电子特种气体

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专注电子特种气体和混配气体

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光刻类

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光刻类

KrF和ArF气体，在行业内的标准统称是 “（准分子）激光气体”，它属于半导体应用电子特种气体板块中的光刻工艺用气”此类气体需要顶尖的纯化技术，精确的配比以及严格的质量管理体系保证产品批次的稳定性。

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> 具备电子气级钢瓶处理和高纯气体分析能力 > 采用深冷精馏、物理化学吸附等先进技术 > 专业电子特种气体和混配气体研发及生产基地 > 25套电子特种气体和混配气体生产加工装置 > 共享股东方的各类研发平台和人力资源 > 新工艺和产品，采用专业化、产业化的运作模式

医学类

XeCl激光通过两种逻辑服务于不同系统：在心血管领域，它以“冷消融”方式直接气化钙化斑块，是介入治疗严重钙化的关键工具；在皮肤科，其同波长光则被病变免疫细胞特异性吸收，以精准的免疫调节方式治疗白癜风与银屑病。眼科采用ArF准分子激光（193nm），其“消融效应”极为精细，可通过打断角膜分子键实现组织重塑，是近视矫正（LASIK）等手术的基石。这三者共同展示了激光医学“精准、靶向、高效”的治疗价值。

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科研类

科研及工业用准分子激光是一类用于产生特定波长、高功率脉冲激光的气体工作介质。其主要作用是，在相应设备中通过气体放电，产生具有工业或科研用途的激光束。此类激光束的应用领域包括芯片制造中的深紫外光刻光源、用于材料切割与表面处理的工业加工光束、以及作为科学研究中的激发光源等。其气体配比、纯度和相关技术规格，取决于具体的波长、输出功率、重复频率等激光性能指标，均需符合特定的工业与科研应用标准。

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显示面板类

显示面板制造中，高纯气体是关键工艺材料：氩气（Ar）、氮气（N₂）、氦气（He）用于薄膜沉积和蚀刻的环境与保护；氟基（CF₄）和氯基（Cl₂）气体用于干法蚀刻；光刻机光源需氪/氟/氖（Kr/F₂/Ne）混合气；高温及封装环节依赖高纯氮气提供惰性环境。这些气体的超高纯度和稳定供应，直接影响面板的精度、良率与成本。

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ABOUT US

中国制造全球信赖

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司作为湖南凯美特气体股份有限公司（证券代码：002549.sz）其控股子公司，坐落于湖南省岳阳市岳阳楼区，成立于2018年1月2日。公司建有12套电子特种气体纯化和混配的生产加工装置，致力于在电子特种气体领域进行全方位拓展。公司还配备了专业的高纯气体及混配气体分析实验室，其中包括8套分析预处理系统、40余台色谱仪、傅里叶变换红外光谱仪、紫外光谱仪、微量水分析仪、ICP-MS、GC-MS、HPIC等先进的进口分析设备。公司的旗舰产品F2/Kr/Ne、F2/Ar/Ne、Kr/Ne、Ar/Xe/Ne混配气通过了国际相关设备原厂认证，产品远销至全球多家知名半导体企业。

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新闻资讯

2026-03-02

2026

03-02

为准分子激光科研应用提供核心气体支持

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司，作为这一领域的专业气体供应商，为科研机构和高校实验室提供着关键的KrF、ArF等准分子激光气体。

2026-03-01

2026

03-01

准分子激光气体在医疗眼科与美容领域的应用

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司将持续深耕电子特气领域，以可靠的产品和技术服务，为医疗激光设备提供稳定的气体支持，助力医疗健康产业的高质量发展。

2026-02-28

2026

02-28

为半导体光刻工艺提供关键气体支撑

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司成立于2018年，位于湖南省岳阳市岳阳楼区七里山，注册资本8000万元，是一家专注于电子特种气体研发与生产的企业。公司依托股东方的产业布局和技术积累，致力于向电子及特种气体领域延伸，建设具备一定影响力的电子特种气体研发和生产基地。

2026-02-23

2026

02-23

2026年2月：岳阳凯美特电子特气通过ASML子公司Cymer认证，国产光刻气获国际认可

岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司收到了来自海外的喜讯：光刻气产品正式列入全球光刻机巨头ASML的合格供应商名单。从2018年成立，到如今同时获得ASML、日本GIGAPHOTON等国际巨头的认证，岳阳凯美特用不到八年时间，走完了从追赶到并跑的征程。

2025-10-21

2025

10-21

准分子激光与极紫外光刻气体：先进半导体制造的核心要素

在半导体制造领域，器件的持续微缩化直接驱动了对先进光刻技术的依赖。随着制程节点向更小尺度演进，所需的图案化步骤显著增加，从而导致准分子激光气体的消耗量同步上升。极紫外光刻作为下一代光刻技术，其发展旨在进一步突破物理限制，该技术间接涉及二氧化碳与氢气的应用，并与现有的深紫外光刻技术形成互补关系，而非在可预见的未来内将其取代。