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F2-Kr-Ne

氟氪氖(F₂/Kr/Ne)同样是一种用于高端制造的特种电子气体混合物。它与氟氩氖的用途相似,核心应用在半导体芯片的等离子体刻蚀工艺中。

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氟氪氖(F₂/Kr/Ne)同样是一种用于高端制造的特种电子气体混合物。

它与氟氩氖的用途相似,核心应用在半导体芯片的等离子体刻蚀工艺中。其关键区别在于,用氪气代替了氩气。氪气具有与氩气不同的原子质量和电离特性,这会改变等离子体的能量和特性,从而影响刻蚀的速率、选择性和各向异性(刻蚀方向的精确控制)。

因此,氟氪氖气体主要用于对刻蚀工艺有极高精细度要求的特定先进制程芯片(如更小的纳米节点)中,工程师通过选择不同的惰性气体(Ar, Kr, Ne等)与氟气搭配,来微调并优化工艺效果,以满足不同材料和结构的最佳刻蚀条件。

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